许秋将蚀刻失败的基片处理掉,开始思考失败的原因。
一方面可能是蚀刻时间过长;
另一方面可能是胶布与基片之间存在有气泡,或者它们的间隙过大。
再次实验。
许秋又取来三片PEN基片,用3M电工胶布贴好图案后,反复用镊子按压胶布的所在部位,使之与基片尽量贴合。
然后,他在三个新的一次性塑料杯中加入稀盐酸,并倒入两勺锌粉。
等待五秒钟后,他将三片基片各自放入一个塑料杯中,同时按下秒表。
每隔40秒钟,捞出一片基片,随后用去离子水冲洗干净,撕下上面贴有的3M电工胶布。
许秋通过肉眼观察,蚀刻时间为40秒、80秒的基片,均得到了完好的图案。
而蚀刻时间为120秒的基片,ITO图案的边缘有被酸液腐蚀的痕迹,不过相较于上一次实验,痕迹变得不明显。
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