光刻机也有人称为曝光机，光刻工艺，要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

通俗一点讲，光刻就是在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制“到硅片上的过程。

光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。

因此光刻机价格昂贵，通常在3千万至5亿美元之间。

光刻机、芯片，差不多代表人类最前沿的科技之一，属于高新科技，一个国家工业的发展，就离不开芯片。

被誉为中国光谷的城市，曾经砸下一千多亿，寄予厚望，希望能孵化出属于中国的芯片产业，但终究还是一场空。

可见，有些科技不是你用钱就能砸出来的。

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