半导体行业被号称是二十一世纪科技界的皇冠，更是目前多项技术发展的基础。

其中光刻机是目前半导体行业之中精密度最高的仪器，设计到生产的难度是非常的巨大。

甚至光刻机之中的许许多多的固件，可不是一个国家能够生产出来的。

这些光刻机的零件不仅拥有着非常高的技术，对于生产的工艺也有非常大的要求。

除了光刻机的生产之外，光刻机的功力也同样是目前的家半导体厂商所冲击的方向。

而眼前所奖励的技术是完全和目前主流浸润式光刻机不同的光刻机技术。

所谓的光刻机用最简单的话就是仪器将光缩减到直径为纳米级别的光束，然后靠着光速在半导体材料晶圆上进行雕刻。

目前光刻机生产最大的阻碍就是96纳米，毕竟在96纳米之后人们想要将光束缩小，再进行对于晶圆的雕刻已经是非常困难了。

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